- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
磁控濺射直流電源是一種常用于薄膜制備的電源技術(shù)，具有以下特點(diǎn)：
工作于高頻變換模式，直流輸出，電源電流調(diào)整通過改變高頻變換的脈沖寬度來實(shí)現(xiàn)。電源具有良好的負(fù)載特性，性價(jià)比高，適用于金屬及反應(yīng)膜層環(huán)境使用。
磁控濺射直流電源技術(shù)還可以應(yīng)用于織物涂層，應(yīng)用于**領(lǐng)域，如防觸電、電磁屏蔽和機(jī)器人防護(hù)織物等。也可用于制造染料。這種涂層織物在醫(yī)療保健、環(huán)境保護(hù)、電子工業(yè)等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。
磁控濺射直流電源技術(shù)參數(shù)：
|
名稱 |
磁控濺射直流電源 |
|
型號(hào) |
CY-MSDC-501 |
|
輸入電源 |
AC190V ～ AC240V |
|
電源*大輸出功率值 |
500W |
|
輸出電壓 |
0V ～ 800V |
|
輸出電流 |
0A ～ 0.75A |
|
輸出功率 |
0W ～ 500W |
|
工作模式 |
恒流、恒壓、恒功率三種模式 |
|
電源工作真空度范圍 |
0Pa～100Pa |
|
數(shù)據(jù)顯示方式 |
105mm*40mm 液晶屏顯示 |
|
電源輸出連續(xù)可調(diào) |
預(yù)先設(shè)定值后一鍵啟動(dòng)，輸出值開始緩慢增加達(dá)到預(yù)設(shè)值，實(shí)際輸出不會(huì)過沖而且穩(wěn)定。達(dá)到預(yù)定輸出值后，仍然可以調(diào)整預(yù)設(shè)輸出值 |
|
電源工作時(shí)間設(shè)置 |
本電源支持電源工作時(shí)間的設(shè)置，到達(dá)設(shè)定時(shí)間到后，電源自動(dòng)停止工作 |
|
通信方式 |
支持RS485 通信 |
|
電源體積（不含面板） |
440 mm × 350 mm × 88 mm |
|
電源重量 |
7Kg |
|
電源保修期限 |
保修壹年，終身維修 |
|
其它 |
本電源只有一個(gè)操作旋鈕，操作簡(jiǎn)便。 自動(dòng)滅弧，以及超限報(bào)警功能 |
