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產品詳情
  • 產品名稱:等離子濺射蒸發二合一鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:成越科儀
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。 設備主要由石英真空室、等離子濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。 設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。真空室采用上中下結構,樣品臺與靶的距離靈活可調。 設備真空獲得系統采用上等雙極旋片泵。 具有體積小,噪音小,無油污污染等優點。 真空腔體采用石英加工而成,呈現圓柱結構,外形美觀,大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優良,能有效鍍膜質量。
詳情介紹:

本產品為二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。設備主要由石英真空室、等離子濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。
設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。真空室采用上中下結構,樣品臺與靶的距離靈活可調。
設備真空獲得系統采用上等雙極旋片泵。 具有體積小,噪音小,無油污污染等優點。
真空腔體采用石英加工而成,呈現圓柱結構,外形美觀,大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優良,能有效鍍膜質量。
技術參數:

樣品臺

φ80mm

至蒸發源間距

20mm~50mm可調

φ80mm

直流濺射頭

數量

2” x1

蒸發系統

 

蒸發源

鎢絲籃

*高溫度

1700℃

熱電偶

S型熱電偶

真空腔體

 

腔體尺寸

φ180mm X 150mm

觀察窗口

全向透明

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

真空系統

 

 

 

機械泵

GHD-031B

抽氣接口

KF16

真空測量

電阻規

排氣接口

KF16

極限真空

10E-1Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

旋片泵:4L/S

濺射電源配置

數量

直流電源 x1

*大輸出功率

150w

 

其他

 

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

500 X 350 X 400mm

整機重量

15kg

整機功率

1.5kw

豫公網安備 41019702002438號