真空鍍膜設備的產品特點

日期：2025-12-08 08:00

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摘要：

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

產品特點

采用箱式結構，真空系統后置，便于操作和維修；整機表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

設備真空系統抽速大，具有抽氣時間短，真空度高，生產周期短等優點。

采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長，可達到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉動采用上部中心驅動，軸承帶水冷，磁流體密封，轉動平穩。

采用石英晶體膜厚控制儀，可實現鍍膜過程的自動控制。

采用鍍膜控制系統，人機操作界面美觀實用，系統穩定，可實現系統的手動、半自動和全自動操作。

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