旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀是基于磁控濺射技術的**表面處理設備，通過動態旋轉基片或靶材的設計，結合粉末靶材的濺射特性，實現復雜形狀基體表面均勻薄膜的沉積。其核心模塊包括真空系統（機械泵+分子泵）、濺射系統（旋轉靶材、磁場控制裝置）及氣體控制系統（氬氣**流量調節）。該設備特別適用于多材料復合鍍層和粉末材料的薄膜制備，可精準調控薄膜成分與結構。

二、功能特點

?1.多材料兼容性?

支持金屬（銅、鈦）、合金、氧化物、陶瓷等多種粉末靶材的濺射，滿足不同功能薄膜的制備需求。

采用旋轉靶材設計，減少靶材局部損耗，延長使用壽命，同時提升材料利用率（達80%以上）。

?2.高均勻性鍍膜?

通過基片旋轉（轉速可調）與磁場協同控制，確保復雜曲面或異形基片表面膜厚均勻性（誤差≤±5%）。

動態調節氣體壓力（0.1–10 Pa）和濺射功率（100–5000 W），優化薄膜致密度與結合強度。

?3.工藝靈活性?

支持單層/多層復合鍍層制備，可通過程序化控制實現梯度成分或納米疊層結構。

可選配加熱模塊（*高800℃）或冷卻系統，適配高溫合金或熱敏感基材的鍍膜需求。

二、應用領域

?1.半導體與電子器件?

用于沉積導電層（銅、鋁）、絕緣層（SiO?、Al?O?）及阻擋層（TaN），提升芯片封裝可靠性與信號傳輸效率。

?2.光學與能源領域?

制備太陽能電池透明導電膜（ITO）、光學抗反射涂層（MgF?）及紅外窗口功能膜。

在鋰離子電池中沉積固態電解質薄膜，優化電極界面性能。

?3.工業防護與裝飾?

航空發動機葉片表面鍍覆CrN/TiAlN耐磨涂層，延長高溫環境下的使用壽命。

珠寶、手表等**品表面裝飾性鍍膜（金、鈦氮化物），提升美觀度與耐腐蝕性。

?4.生物醫學與科研?

在醫用植入物表面沉積生物相容性涂層（羥基磷灰石、類金剛石碳膜），減少排異反應。

用于納米磁性薄膜、超導材料等前沿領域的實驗室研究.

旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀技術參數：