產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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1200℃三路供氣低真... 1200℃三路供氣低真空度旋轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為風(fēng)冷法蘭，摩擦傳動(dòng)，傾角（0-15°）任意可調(diào)。...
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)三通道... 1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)管式爐由精密...
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全自動(dòng)CVD滑軌爐 全自動(dòng)CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)...
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1200℃三溫區(qū)三通道... 1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。管式爐三個(gè)溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過(guò)調(diào)...
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1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自... 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動(dòng)進(jìn)出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動(dòng)進(jìn)出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速...
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兩通道CVD系統(tǒng) 本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計(jì)并配有雙極旋片泵、水冷機(jī)、數(shù)字真空計(jì)且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實(shí)驗(yàn)。
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1200℃三通道CVD... 該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測(cè)量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成。可以滿(mǎn)足日常的大多數(shù)CVD實(shí)驗(yàn)和各種科研要...
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三溫區(qū)1600 CVD... 該三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng)主要用于真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)性燒結(jié)、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實(shí)驗(yàn)
